什么是臭氧，它在半導體中是如何工作的？

臭氧氣體具有高度反應性，可以有效分解各種污染物。在半導體制造中，臭氧氣體用于通過將硅晶圓暴露于基于臭氧的清潔溶液來去除硅晶片表面的污染物。溶液中的臭氧與污染物反應并分解它們，使表面清潔且沒有雜質。

在半導體制造中使用臭氧的優勢

高效：臭氧具有高反應性，可以快速有效地去除各種污染物，包括有機殘留物、金屬和顆粒。這使其成為清潔半導體表面以保持高清潔度的理想選擇。

環保：臭氧是一種天然存在的氣體，在與污染物反應后會迅速恢復為氧氣。這使其成為其他可能含有有害化學物質的清潔劑的環保替代品。

效率：臭氧是一種速效清潔劑，可以快速有效地去除表面的污染物。這使其成為時間是關鍵因素的清潔過程的有效選擇。

多面性：臭氧可用于各種清潔應用，包括表面清潔、水處理和空氣凈化。這使其成為一系列行業的多功能選擇。

安全：如果使用得當，臭氧通常被認為對工人和環境都是安全的。

主要特點：

臭氧比RCA清潔技術便宜。

臭氧是一種環保且具有成本效益的解決方案，適用于高級晶圓清潔。

減少用水量

消除昂貴的化學產品